IT 之家 10 月 2 日音尘人妖 夫妻，康宁公司今天发布了新一代   Extreme   ULE 玻璃材料，康宁将于 9 月 30 日至 10 月 3 日在加州蒙特雷举行的 SPIE 光掩模技能 + 极紫外光刻会议上展示这种玻璃和其他半导体材料。

据先容，这种新玻璃材料可匡助芯片制造商转变芯片接洽的模板"光掩模"，可承受最高强度的极紫外光（EUV）光刻，具有接近 0 的延长特点，可适用于 EUV 光掩模和光刻镜，关于大边界坐褥最先进、最具资本效益的微芯片至关伏击。

IT 之家注：光掩模是微纳加工技能常用的光刻工艺所使用的图形母版，可在透明玻璃板名义的遮光膜上蚀刻加工非常渺小的电路图案，从而应用光刻蚀技能将图案复刻到晶圆上。

康宁暗意，EUV 光刻需要制造商使用最先进的光掩模来完成图案化和印刷历程，而这个历程需要顶点的热自若性和均匀的玻璃材料，以确保终局一致的制造性能。

康宁高档光学副总裁兼总司理 Claude Echahamian 暗意人妖 夫妻，" Extreme   ULE 玻璃可终局更高功率的 EUV 制造以及更高的良率，扩大康宁在握续追求摩尔定律方面的枢纽作用。"